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Compositional and structural analysis of aluminum oxide films prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition
等离子体增强化学气相沉积氧化铝薄膜的组成和结构分析
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期刊:Thin Solid Films 作者:Yong Chun Kim; Hyung Ho Park; John S. Chun; Won Jong Lee 出版日期:1994-01-01 |
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