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Modified divacancies in 4H-SiC
4H-SiC中的修饰双空位
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DOI
10.1063/5.0099017 doi
其它 期刊:Journal of Applied Physics
作者:Nguyên Tiên Són; Danial Shafizadeh; Takeshi Ohshima; Ivan G. Ivanov
出版日期:2022-07-13
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冷傲碧萱 在 2025-08-18 17:41:10 发布,悬赏 10 积分
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