Monte Carlo method for highly efficient and accurate statistical lithography simulations

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标题	Monte Carlo method for highly efficient and accurate statistical lithography simulations 相关领域蒙特卡罗方法抵抗平版印刷术临界尺寸计算机科学光学（聚焦）高斯分布高斯过程计算光刻算法过程（计算）统计模型光学接近校正 X射线光刻电子工程光学材料科学人工智能物理数学纳米技术工程类统计量子力学操作系统图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.474492
DOI	10.1117/12.474492 doi
其它	期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Sergei V. Postnikov; Kevin Lucas; Karl Wimmer; Vladimir Ivin; Andrey Rogov; et al 出版日期：2002-07-15
求助人	龙天宇在 2025-11-05 20:53:39 发布自浙江，悬赏 20 积分
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