| 标题 |
  Advancements and challenges in inverse lithography technology: a review of artificial intelligence-based approaches 逆光刻技术的进展与挑战：基于人工智能的方法综述
相关领域
计算机科学
深度学习
平版印刷术
人工智能
利用
卷积神经网络
生成语法
人工神经网络
新兴技术
材料科学
计算机安全
光电子学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Light: Science & Applications 作者：Yixin Yang; Kexuan Liu; Yunhui Gao; Chen Wang; Liangcai Cao 出版日期：2025-07-24 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Copyright
Kao
cdercder
OK
无极微光
Nole
yayaya
liuzhuohao
pluto
东方元语
arniu2008
学术文献互助
Nexus
磷酸丙糖异构酶
潇洒的惋清
犹豫的绮菱
柏柏
迷路的牛排
核桃
初景
皖公网安备34019202002308
