Film and surface stress during Al2O3 and AlF3 atomic layer deposition using in situ wafer curvature measurements

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标题	Film and surface stress during Al2O3 and AlF3 atomic layer deposition using in situ wafer curvature measurements
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2025.165642
DOI	10.1016/j.apsusc.2025.165642 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Richard Vanfleet; Emanuele Sortino; Andrew S. Cavanagh; Victor M. Bright; Steven M. George 出版日期：2025-12-20
求助人	Liu 在 2026-08-12 10:50:49 发布自江苏，悬赏 10 积分
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