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标题
A virtual defect metrology system utilizing photolithography scanner topography maps to quantitatively detect gross defects, perform in-line yield prediction, and identify defect generating tools
一种虚拟缺陷计量系统，利用光刻扫描仪形貌图定量检测总缺陷、执行在线产量预测和识别缺陷产生工具
相关领域
计量学 光刻 扫描仪 计算机科学 直线（几何图形） 产量（工程） 人工智能 纳米技术 材料科学 数学 统计 几何学 冶金
网址
https://doi.org/10.1117/12.3050587
DOI
10.1117/12.3050587 doi
其它 期刊：
作者：Prasenjit Bose; Vishal K. Pandey; Michael Staib; Bret Womach; Itamar Balla; et al
出版日期：2025-04-24
求助人
笑点低芹菜 在 2025-12-13 14:30:30 发布自上海，悬赏 20 积分
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