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标题
Si-doped HZO and ZrO2 for hysteresis free high-k dielectric
用于无磁滞高k电介质的Si掺杂HZO和ZrO2
相关领域
兴奋剂 材料科学 磁滞 电介质 凝聚态物理 光电子学 物理
网址
https://doi.org/10.1116/6.0003895
DOI
10.1116/6.0003895 doi
其它 期刊：Journal of vacuum science & technology
作者：Harshil Kashyap; Ping‐Che Lee; Kisung Chae; M. Passlack; Ajay K. Yadav; et al
出版日期：2025-01-08
求助人
Eorlys 在 2025-12-28 19:32:43 发布自上海，悬赏 10 积分
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