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标题
Influence of Sputtering Pressure on the Micro-Topography of Sputtered Cu/Si Films: Integrated Multiscale Simulation
相关领域
溅射 材料科学 溅射沉积 热化 外延 工作（物理） 表面能 薄膜 光电子学 原子物理学 纳米技术 复合材料 图层（电子） 热力学 物理
网址
https://www.mdpi.com/2227-9717/11/6/1649/pdf?version=1686214...
AI链接 mdpi.com mdpi.comdoi.org
DOI
10.3390/pr11061649 doi
其它 期刊：Processes
作者：Guo Zhu; Mengxin Han; Baijun Xiao; Zhiyin Gan
出版日期：2023-05-28
求助人
LZJ 在 2026-01-09 13:20:36 发布自海南，悬赏 10 积分
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