Experimental and numerical analysis of the effects of ion bombardment in silicon oxide (SiO2) plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD) processes

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标题	Experimental and numerical analysis of the effects of ion bombardment in silicon oxide (SiO2) plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD) processes
网址	https://doi.org/10.35848/1347-4065/ab8681
DOI	10.35848/1347-4065/ab8681 doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Hu Li; Tomoko Ito; Kazuhiro Karahashi; Munehito Kagaya; Tsuyoshi Moriya; et al 出版日期：2020
求助人	靳韩羽在 2026-05-27 10:27:13 发布自浙江，悬赏 10 积分
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