Nanoscale SiGe BiCMOS technologies: From 55 nm reality to 14 nm opportunities and challenges

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标题	Nanoscale SiGe BiCMOS technologies: From 55 nm reality to 14 nm opportunities and challenges
网址	https://doi.org/10.1109/BCTM.2015.7340556
DOI	10.1109/BCTM.2015.7340556 doi
其它	期刊：2015 IEEE Bipolar/BiCMOS Circuits and Technology Meeting - BCTM 作者：P. Chevalier; G. Avenier; E. Canderle; A. Montagne; G. Ribes; V.T. Vu 出版日期：2015
求助人	正宗硅片炖鱼头在 2026-03-17 22:46:56 发布自重庆，悬赏 10 积分
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