On the relation between deposition conditions and (mechanical) stress in plasma silicon nitride layers

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标题	On the relation between deposition conditions and (mechanical) stress in plasma silicon nitride layers
网址	https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/0040609085...
DOI	10.1016/0040-6090(85)90051-3 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：W.A.P. Claassen; W.G.J.M. Valkenburg; W.M.v.d. Wijgert; M.F.C. Willemsen 出版日期：2002-10-19
求助人	封听白在 2026-04-18 22:50:57 发布自浙江，悬赏 10 积分
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