| 标题 |
 Improvement of SiC deposition uniformity in CVD reactor by showerhead with baffle 带挡板喷头改善CVD反应器SiC沉积均匀性
相关领域
迷惑
沉积（地质）
材料科学
基质（水族馆）
增长率
复合材料
化学气相沉积
化学
光电子学
化学工程
几何学
地质学
数学
工程类
古生物学
海洋学
沉积物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Crystal Growth 作者：Qizhong Li; Yixuan Zhang; Baifeng Ji; Song Zhang; Rong Tu 出版日期：2023-08-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Kao
大力的冬萱
v0id
cdercder
完美巧凡
行走的荷尔蒙
ale
OK
yjh123
丰富语蕊
arniu2008
22336
aajhajkahna
嘻嘻哈哈
didiwang
369ninja
渡人舟
Rikki0326
sanvva
sagitar
皖公网安备34019202002308
