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标题
Highly Selective Etching of Silicon Dioxide Over Aluminum Using Mixtures of Sulfuric Acid and Hydrofluoric Acid
使用硫酸和氢氟酸混合物在铝上高选择性蚀刻二氧化硅
相关领域
氢氟酸 硫酸 二氧化硅 蚀刻（微加工） 硅 铝 材料科学 无机化学 化学 复合材料 冶金 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1109/jmems.2024.3450911
DOI
10.1109/jmems.2024.3450911 doi
其它 期刊：Journal of Microelectromechanical Systems
作者：Tae-Soo Kim; Yong‐Bok Lee; Soyoung Lee; Sungho Kim; Jun‐Bo Yoon
出版日期：2024-09-09
求助人
淡然的念珍 在 2025-12-16 00:01:42 发布自湖北，悬赏 10 积分
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