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标题
Modeling and analysis of SiO2 deposition during high-purity fused silica glass synthesis by SiCl4 chemical vapor deposition
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网址
https://doi.org/10.1016/j.ceramint.2019.02.147
DOI
10.1016/j.ceramint.2019.02.147 doi
其它 期刊：Ceramics International
作者：Yaosong Huang
出版日期：2019-02-21
求助人
biubiu 在 2026-01-18 01:19:08 发布自湖北，悬赏 10 积分
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