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作者
Michael L. Hitchman,Klavs F. Jensen
出处
期刊:Academic Press eBooks
[Academic Press]
日期:1993-01-01
被引量:318
摘要
M.L. Hitchman and K.F. Jensen, Chemical Vapour Deposition--An Overview. K.F. Jensen, Fundamentals of Chemical Vapour Deposition. W.G. Breiland and P. Ho, Analysis of Chemical Vapor Deposition Processes. M.L. Hitchman and K.F. Jensen, Chemical Vapor Deposition at Low Pressures. B.S. Meyerson, Silicon Epitaxy by Chemical Vapor Deposition. R.L. Moon and Y.-M. Houng, Organometallic Vapor Phase Epitaxy of III-V Materials. D.W. Hess and D.B. Graves, Plasma-Assisted Chemical and Vapor Deposition. V.R. McCrary and V.M. Donnelly, Photo-Assisted Chemical Vapor Deposition. W.B. Jackson, Electronic and Optical Characterization of Chemical Vapor Deposition Films for Device Applications. G. Wahl, Protective Coatings. Index.
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