Basic Principles of Plasma Etching for Silicon Devices - 科研通

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标题	Basic Principles of Plasma Etching for Silicon Devices
网址	https://doi.org/10.1016/B978-0-12-234108-3.50013-3
DOI	10.1016/B978-0-12-234108-3.50013-3 doi
其它	期刊：Plasma Processing for VLSI 作者：DANIEL L. FLAMM; VINCENT M. DONNELLY; DALE E. IBBOTSON 出版日期：1984
求助人	积极的初南在 2026-01-27 18:00:22 发布自湖北，悬赏 10 积分
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