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标题
Plasma Focused Ion Beam Tomography for Accurate Characterization of Black Silicon Validated by Full Wave Optical Simulation
全波光学模拟验证等离子体聚焦离子束层析成像对黑硅的精确表征
相关领域
材料科学 硅 表征（材料科学） 黑硅 制作 聚焦离子束 断层摄影术 工作流程 纳米技术 光电子学 光学 离子 计算机科学 病理 物理 数据库 替代医学 医学 量子力学
网址
https://doi.org/10.1002/admt.202200068
AI链接 wiley.com amolf.nl amolf.nldoi.org
DOI
10.1002/admt.202200068 doi
其它 期刊：Advanced Materials Technologies
作者：Yu Zhang; Tom Veeken; Shaozhou Wang; Giuseppe Scardera; Malcolm Abbott; et al
出版日期：2022-04-28
求助人
amor 在 2025-08-30 02:51:43 发布，悬赏 10 积分
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