Atomic Layer Deposition of WO3-Doped In2O3 for Reliable and Scalable BEOL-Compatible Transistors

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标题	Atomic Layer Deposition of WO3-Doped In2O3 for Reliable and Scalable BEOL-Compatible Transistors 用于可靠和可扩展的BEOL兼容晶体管的WO3掺杂In2O3原子层沉积相关领域原子层沉积材料科学兴奋剂图层（电子）沉积（地质）晶体管光电子学可扩展性纳米技术计算机科学物理数据库电压量子力学生物沉积物古生物学
网址	https://doi.org/10.1021/acs.nanolett.4c00746
DOI	10.1021/acs.nanolett.4c00746 doi
其它	期刊：Nano Letters 作者：Chanyoung Yoo; Jonathan Hartanto; Balreen Saini; W. Tsai; Vivek Thampy; et al 出版日期：2024-04-30
求助人	LamChem 在 2025-09-20 09:55:03 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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