| 标题 |
  Fatigue and retention in the growth window of ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 thin films 铁电Hf0.5Zr 0.5 O2薄膜生长窗口中的疲劳和滞留
相关领域
铁电性
材料科学
外延
极化（电化学）
基质（水族馆）
数据保留
薄膜
复合材料
光电子学
电介质
图层（电子）
纳米技术
化学
地质学
海洋学
物理化学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
浮游
无极微光
归尘
Zx_1993
yznfly
风吹麦田
BareBear
小青椒
Mic
子车茗
ccm
8R60d8
pluto
且慢
月子淇
蚊蚊爱读书
tuanheqi
Frank
fei
xxfsx
eric888
彭于彦祖
liao
GingerF
皖公网安备34019202002308
