Etching mechanism of vitreous silicon dioxide in HF-based solutions

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标题	Etching mechanism of vitreous silicon dioxide in HF-based solutions 玻璃态二氧化硅在HF基溶液中的刻蚀机理相关领域化学硅醇脱质子化质子化二氧化硅硅溶解分子水溶液反应速率反应机理缓冲氧化物腐蚀无机化学基本反应蚀刻（微加工）物理化学离子反应离子刻蚀有机化学动力学催化作用化学工程图层（电子）工程类物理量子力学
网址	http://dx.doi.org/10.1021/ja993803z
DOI	10.1021/ja993803z doi
求助人	美满的冬卉在 2025-07-29 22:51:48 发布自江苏，悬赏 10 积分
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