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Stability of double gate amorphous In–Ga–Zn–O thin-film transistors with various top gate designs 相关领域
薄膜晶体管
材料科学
栅氧化层
光电子学
晶体管
阈值电压
无定形固体
薄膜
栅极电介质
图层(电子)
电气工程
电压
纳米技术
化学
工程类
结晶学
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期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:Te-Chih Chen; Yue Kuo; Ting‐Chang Chang; Min-Chen Chen; Hua-Mao Chen 出版日期:2017-11-01 |
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