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Performance evaluation of GaN etching using Cl2-based plasma with bias pulsing |
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期刊:Journal of vacuum science & technology 作者:Simon Ruel; Patricia Pimenta‐Barros; Maxime Pezeril; Philippe Thoueille; François Gaucher; et al 出版日期:2024-06-18 |
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(2025-6-4)