Silicon dioxide sacrificial layer etching in surface micromachining

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标题	Silicon dioxide sacrificial layer etching in surface micromachining 表面微加工中的二氧化硅牺牲层刻蚀相关领域表面微加工蚀刻（微加工）缓冲氧化物腐蚀图层（电子）二氧化硅材料科学体微机械加工硅干法蚀刻各向同性腐蚀纳米技术光电子学反应离子刻蚀复合材料制作病理替代医学医学
网址	https://doi.org/10.1088/0960-1317/7/1/001
DOI	10.1088/0960-1317/7/1/001 doi
其它	期刊：Journal of Micromechanics and Microengineering 作者：Johannes Bühler; F-P Steiner; H. Baltes 出版日期：1997-03-01
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