Effect of chemical action on the chemical mechanical polishing of β-Ga2O3(100) substrate

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标题	Effect of chemical action on the chemical mechanical polishing of β-Ga2O3(100) substrate 化学作用对β-Ga2O3（100）衬底化学机械抛光的影响相关领域化学机械平面化抛光泥浆 X射线光电子能谱扫描电子显微镜材料科学表面粗糙度 Crystal（编程语言）基质（水族馆）化学工程表面光洁度冶金复合材料工程类地质学海洋学程序设计语言计算机科学
网址	https://doi.org/10.1016/j.precisioneng.2018.11.013
DOI	10.1016/j.precisioneng.2018.11.013 doi
其它	期刊：Precision Engineering 作者：Chuanjin Huang; Hai Zhou; Yongwei Zhu; Changtai Xia 出版日期：2018-11-29
求助人	秋刀鱼在 2025-05-26 11:15:38 发布自天津，悬赏 10 积分
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