Atomistic Simulation of HF Etching Process of Amorphous Si3N4 Using Machine Learning Potential

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标题	Atomistic Simulation of HF Etching Process of Amorphous Si3N4 Using Machine Learning Potential
网址	https://pubs.acs.org/doi/pdf/10.1021/acsami.4c07949
DOI	10.1021/acsami.4c07949 doi
其它	期刊：ACS Applied Materials and Interfaces 作者：Changho Hong; Sangmin Oh; Hyungmin An; Purun-hanul Kim; Yaeji Kim; et al 出版日期：2024-08-28
求助人	Joyezhou 在 2026-08-15 13:28:23 发布自广东，悬赏 10 积分
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