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CVD of Al2O3 Thin Films Using Aluminum Tri‐isopropoxide |
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期刊:Chemical Vapor Deposition 作者:S. Blittersdorf; N. Bahlawane; K. Kohse‐Höinghaus; B. Atakan; J. Müller 出版日期:2003-08-22 |
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(2025-6-4)