DDR process and materials for NTD photo resist in EUV lithography

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标题	DDR process and materials for NTD photo resist in EUV lithography EUV光刻中NTD光刻胶的DDR工艺及材料相关领域极紫外光刻抵抗平版印刷术材料科学过程（计算）纳米技术光刻多重图案光电子学计算机科学图层（电子）操作系统
网址	https://doi.org/10.1117/12.2280536
DOI	10.1117/12.2280536 doi
其它	期刊：作者：Shuhei Shigaki; Satoshi Takeda; Wataru Shibayama; Makoto Nakajima; Rikimaru Sakamoto 出版日期：2017-10-16
求助人	LDWV 在 2025-10-27 09:40:19 发布自贵州，悬赏 20 积分
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