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标题
DDR process and materials for NTD photo resist in EUV lithography
EUV光刻中NTD光刻胶的DDR工艺及材料
相关领域
极紫外光刻 抵抗 平版印刷术 材料科学 过程（计算） 纳米技术 光刻 多重图案 光电子学 计算机科学 图层（电子） 操作系统
网址
https://doi.org/10.1117/12.2280536
DOI
10.1117/12.2280536 doi
其它 期刊：
作者：Shuhei Shigaki; Satoshi Takeda; Wataru Shibayama; Makoto Nakajima; Rikimaru Sakamoto
出版日期：2017-10-16
求助人
LDWV 在 2025-10-27 09:40:19 发布自贵州，悬赏 20 积分
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