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 A pre-reaction suppressing strategy for α-Ga2O3 halide vapor pressure epitaxy using asymmetric precursor gas flow 相关领域
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期刊：CrystEngComm 作者：Sunjae Kim; Hyeon Woo Kim; Hyeong-Yun Kim; Dae‐Woo Jeon; Sung Beom Cho; et al 出版日期：2022-01-01 |
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