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 Vote-taking for EUV lithography: a radical approach to mitigate mask defects EUV光刻的投票：减轻掩模缺陷的激进方法
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Timothy A. Brunner; Melih Ozlem; Geng Han; Jed Rankin; Obert R. Wood; et al 出版日期：2017-03-24 |
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