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  Advance Chemical Mechanical Polishing Technique for Gallium Nitride Substrate 氮化镓衬底的先进化学机械抛光技术
相关领域
材料科学
抛光
氮化镓
化学机械平面化
基质（水族馆）
镓
氮化物
纳米技术
冶金
图层（电子）
海洋学
地质学
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期刊：Advanced Materials Interfaces 作者：Xuanyi Zhao; Shouzhi Wang; Lei Liu; Qiubo Li; Jiaoxian Yu; et al 出版日期：2024-03-04 |
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