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Characterization of Structural and Dielectric Properties of Silicon Nitride Thin Films Deposited by PECVD
网址
https://doi.org/10.1109/ICD59037.2024.10613222
DOI
10.1109/ICD59037.2024.10613222 doi
其它 期刊：2024 IEEE 5th International Conference on Dielectrics (ICD)
作者：T. Al Moussi; C. O'Dalaigh; J. Esvan; P. Lambkin; R. Lakshmanan; et al
出版日期：2024
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Ih6uaZ 在 2026-02-04 18:20:47 发布自江苏，悬赏 10 积分
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