| 标题 |
Surface damage induced by focused-ion-beam milling in a Si/Si p–n junction cross-sectional specimen 相关领域
无定形固体
材料科学
聚焦离子束
透射电子显微镜
离子铣床
离子
分析化学(期刊)
离子束
复合材料
结晶学
纳米技术
图层(电子)
化学
色谱法
有机化学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Applied Surface Science 作者:Zhouguang Wang; Takeharu Kato; Tsukasa Hirayama; Naoko Kato; Katsuhiro Sasaki; Hiroyasu Saka 出版日期:2005 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)