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 Mitigation of accumulated electric charge by deposited fluorocarbon film during SiO2 etching 沉积氟碳膜对SiO2刻蚀过程中累积电荷的缓解
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Tadashi Shimmura; Yuya Suzuki; S. Soda; Seiji Samukawa; Mitsumasa Koyanagi; et al 出版日期：2004-02-20 |
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