| 标题 |
 通过电化学蚀刻在硅中形成宽而深的孔 相关领域
氢氟酸
蚀刻（微加工）
硅
材料科学
溶解
电化学
电解质
电化学加工
化学工程
反应离子刻蚀
各向同性腐蚀
纳米技术
电极
光电子学
化学
冶金
物理化学
图层（电子）
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
Materials Science and Engineering: B ( IF 3.9 ) Pub Date : 2000-01-01 , DOI: 10.1016/s0921-5107(99)00260-3 P Kleimann , J Linnros , S Petersson |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
pluto
cdercder
冰魂
SYLH
平常的毛豆
11哥
非而者厚
科研小民工
jenningseastera
iNk
gao_yiyi
昏睡的蟠桃
HEIKU
余味
zgt01
Oracle
高大凌寒
斯寜
VT
遇上就这样吧
皖公网安备34019202002308
