| 标题 |
Microstructure, oxidation and H2-permeation resistance of TiAlN films deposited by DC magnetron sputtering technique 直流磁控溅射TiAlN薄膜的组织、氧化及抗氢渗透性能
相关领域
材料科学
微观结构
溅射沉积
扫描电子显微镜
锡
溅射
涂层
冶金
渗透
化学工程
薄膜
复合材料
纳米技术
膜
遗传学
生物
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|