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 A novel tensile Si (n) and compressive SiGe (p) dual-channel CMOS FinFET co-integration scheme for 5nm logic applications and beyond 适用于5nm及以上逻辑应用的新型拉伸Si（n）和压缩SiGe（p）双通道CMOS FinFET共集成方案
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期刊： 作者：Dong-il Bae; Geum-Jong Bae; Krishna K. Bhuwalka; Seunghun Lee; Myung-Geun Song; et al 出版日期：2016-12-01 |
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