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 Growth dynamics in patterned TiO2 deposited by direct atomic layer processing (DALP) in ambient conditions 环境条件下直接原子层处理（DALP）沉积图案化TiO2的生长动力学
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Simone Santucci; Amogh Kinikar; Ziwei Wang; Nandan Singh Ruhela; Jesper Navne; et al 出版日期：2025-11-12 |
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