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标题
Cryogenic behavior of high-permittivity gate dielectrics: The impact of atomic layer deposition temperature and the lithographic patterning method
高介电常数栅极电介质的低温行为：原子层沉积温度和光刻图案化方法的影响
相关领域
原子层沉积 材料科学 介电常数 平版印刷术 电介质 图层（电子） 沉积（地质） 光电子学 纳米光刻 凝聚态物理 纳米技术 制作 物理 病理 古生物学 生物 医学 替代医学 沉积物
网址
https://doi.org/10.1063/5.0250428
DOI
10.1063/5.0250428 doi
其它 期刊：Journal of Applied Physics
作者：Alessandro Paghi; S. Battisti; Simone Tortorella; Giorgio De Simoni; Francesco Giazotto
出版日期：2025-01-28
求助人
情怀 在 2025-08-05 01:00:58 发布，悬赏 10 积分
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