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 Cryogenic behavior of high-permittivity gate dielectrics: The impact of atomic layer deposition temperature and the lithographic patterning method 高介电常数栅极电介质的低温行为：原子层沉积温度和光刻图案化方法的影响
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期刊：Journal of Applied Physics 作者：Alessandro Paghi; S. Battisti; Simone Tortorella; Giorgio De Simoni; Francesco Giazotto 出版日期：2025-01-28 |
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