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Annealing-dependent changes in the structural and electrical properties of NiO epitaxial films
NiO外延膜结构和电学性质的退火相关变化
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网址
https://doi.org/10.1088/1361-6641/ac86ea
DOI
10.1088/1361-6641/ac86ea doi
其它 期刊：Semiconductor Science and Technology
作者：Bhabani Prasad Sahu; Santosh Kumar Yadav; Subhabrata Dhar
出版日期：2022-08-04
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