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 Noise Analysis of Nitride-Based Metal–Oxide–Semiconductor Heterostructure Field Effect Transistors with Photo-Chemical Vapor Deposition SiO2 Gate Oxide in the Linear and Saturation Regions 相关领域
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Yu-Zung Chiou; Yan‐Kuin Su; Jeng Gong; Shoou-Jinn Chang; Chun-Kai Wang 出版日期：2006-04-01 |
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