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  Dense, single-phase, hard, and stress-free Ti0.32Al0.63W0.05N films grown by magnetron sputtering with dramatically reduced energy consumption 磁控溅射生长致密、单相、坚硬、无应力的Ti0.32Al 0.63 W 0.05 N薄膜，能耗显著降低
相关领域
高功率脉冲磁控溅射
材料科学
溅射沉积
溅射
薄膜
纤锌矿晶体结构
纳米压痕
合金
基质（水族馆）
光电子学
复合材料
冶金
纳米技术
海洋学
锌
地质学
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期刊：Scientific Reports 作者：X.G. Li; Babak Bakhit; Mats Johansson; I. Petrov; Lars Hultman; et al 出版日期：2022-02-09 |
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Oliver
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