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 Platinum silicide formation on selected semiconductors surfaces via thermal annealing and intercalation 通过热退火和插层在选定半导体表面上形成硅化铂
相关领域
硅化物
铂金
材料科学
X射线光电子能谱
退火（玻璃）
插层（化学）
低能电子衍射
石墨烯
硅
半导体
热稳定性
化学工程
电子衍射
结晶学
纳米技术
衍射
无机化学
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化学
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催化作用
光学
工程类
生物化学
物理
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| 其它 |
期刊：Applied Surface Science 作者：K. Idczak; Sylwia Owczarek; L. Markowski 出版日期：2021-09-28 |
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