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 Nucleation and Layer Closure Behavior of Iridium Films Grown Using Atomic Layer Deposition 原子层沉积铱薄膜的成核和层闭合行为
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铱
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期刊：The Journal of Physical Chemistry Letters 作者：Hong Keun Chung; Han Kim; Jonggu Jeon; Sung‐Chul Kim; Sung Ok Won; et al 出版日期：2023-07-13 |
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