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 Aluminum Film Deposition Using an Ultrahigh-Vacuum Sputtering System 使用超高真空溅射系统沉积铝膜
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Tetsuji Kiyota; Satoru Toyoda; Kouichi Tamagawa; Hiroyuki YAMAKAWA 出版日期：1993-02-01 |
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