Comparative Study of Surface Activation Steps for Thermally Grown Oxide Interface and Optimal Silanization

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标题	Comparative Study of Surface Activation Steps for Thermally Grown Oxide Interface and Optimal Silanization
网址	https://doi.org/10.1002/pssa.202300294
DOI	10.1002/pssa.202300294 doi
其它	期刊：Physica Status Solidi (a) 作者：Divagar Murugan; Marcel Tintelott; Hesam Amiri; Martin Kasavetov; D. Besedin; et al 出版日期：2023-07-18
求助人	Jack 在 2026-07-04 17:42:22 发布自广东，悬赏 10 积分
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