Chemical reactions induced by low-energy electron exposure on a novel inorganic-organic hybrid dry EUV photoresist deposited by molecular atomic layer deposition (MALD)

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标题	Chemical reactions induced by low-energy electron exposure on a novel inorganic-organic hybrid dry EUV photoresist deposited by molecular atomic layer deposition (MALD)
网址	https://doi.org/10.1117/12.2641647
DOI	10.1117/12.2641647 doi
其它	期刊：International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2022 作者：Dan N. Le; Su Min Hwang; Jihoon Woo; Seungsoo Choi; Taehee Park; et al 出版日期：2022-11-11
求助人	酷炫海白在 2026-08-07 11:45:29 发布自上海，悬赏 20 积分
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