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标题
Effect of gas additives on reaction barriers in cryo etching of silicon oxide and nitride
网址
https://doi.org/10.1116/6.0005404
DOI
10.1116/6.0005404 doi
其它 期刊：Journal of vacuum science & technology
作者：Yichen Fan; Thorsten Lill; Mingmei Wang; Dongjun Wu; Gopal R. Iyer; et al
出版日期：2026-04-09
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Joyezhou 在 2026-08-17 00:23:44 发布自广东，悬赏 30 积分
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