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 Evaluation of Si thin film formed from Si0.7Ge0.3/Si/Si0.7Ge0.3-stacked layers with CF4/H2 plasma for Si-nanosheet formation toward GAA transistor application 相关领域
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期刊：Applied Physics Letters 作者：Kohei Ozaki; Yusuke Imai; Yuki Imai; Takayoshi Tsutsumi; Kenji Ishikawa; et al 出版日期：2026-05-25 |
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(2025-6-4)
GingerF
FIN
HFH
赵赶超
无私白羊
星辰坠于海
无极微光
heekkll
秋风
斯文的白玉
DearG
zhangchi
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