| 标题 |
 Study on the etching characteristics of amorphous carbon layer in oxygen plasma with carbonyl sulfide 相关领域
蚀刻（微加工）
无定形碳
材料科学
无定形固体
图层（电子）
碳纤维
氧化物
硫化物
化学工程
干法蚀刻
纳米技术
复合材料
化学
冶金
有机化学
复合数
工程类
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期刊：Journal of Vacuum Science and Technology 作者：J. K. Kim; Sung-il Cho; Nam-Gun Kim; M. Jhon; K. Min; et al 出版日期：2013-01-28 |
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