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标题
Formation of SiO2 thin films through plasma- enhanced chemical vapor deposition using SiH4/Ar/N2O
网址
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2024.140348
DOI
10.1016/j.tsf.2024.140348 doi
其它 期刊：Thin Solid Films
作者：Jingjing Zhang; Jingquan Guo; Qiutong Zhao; Lihui Yu; Shujun Ye; et al
出版日期：2024-04-27
求助人
空城旧梦 在 2026-08-25 22:14:41 发布自安徽，悬赏 10 积分
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    空城旧梦 空城旧梦 Lv1 求助人 发起了本次求助

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